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国内半导体设备行业领军企业,中企华助力拓荆科技科创板成功上市

发布时间:2022-04-20 来源:中企华 打印 作者:中企华 字号:


     2022年4月20日,国内半导体设备行业领军企业,拓荆科技股份有限公司(股票简称:拓荆科技,股票代码:688072)在上交所科创板成功上市。该股上市首日开盘价95.01元/股,较发行价71.88 元/股上涨32.18%。


关于拓荆科技

      拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

      拓荆科技经过十余年的创新发展,已成为国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商,也是国内领先的ALD设备厂商。公司以国家级高层次人才为核心,已经建成了一支国际化、专业化的半导体薄膜沉积设备研发技术团队。公司先后多次承担国家重大专项/课题,坚持自主创新,构建了完善的知识产权体系,拥有多项国际先进的核心技术,设备性能及关键指标均达国际同类设备水平。

      公司通过在薄膜沉积设备这一半导体核心设备细分领域的积累和快速发展,已经成为国内半导体设备行业的领军企业,三次获得中国半导体行业协会颁发的“中国半导体设备五强企业”称号。公司设备以优异的薄膜性能、具有竞争力的生产成本、高效的售后服务,赢得了广泛的市场空间。目前,公司已形成覆盖二十余种工艺型号的薄膜沉积设备,满足下游客户晶圆制造产线多种薄膜沉积工艺需求,公司产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储等国内主流晶圆厂产线。

      拓荆科技以建立“世界领先的薄膜设备公司”为愿景,未来将继续致力于高端半导体设备的研发及产业化,扩大现有设备市场占有率,提高公司设备的技术先进性,丰富公司设备种类,拓展技术应用领域,并开拓国际市场。

      从首次引进战投到股改八年时间,中企华大连分公司负责人、拓荆科技项目总负责人王晨煜及其团队一路相伴,以严谨认真的工作态度和深厚扎实的专业能力,为拓荆科技提供了全方位的专业评估服务。借此机会,我们对拓荆科技成功登陆科创板表示衷心的祝贺,祝愿拓荆科技的明天更加辉煌!




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